全球高钾和ALD CVD金属前体市场规模在2018年的456.5亿美元上价值,预计将在预测期内注册8.3%的CAGR。市场的增长可以归因于金属 - 有机复合材料的低热稳定性。预计主要公司的广泛研发活动将改善铜金属化过程,预计将加速将第一排金属膜(导电)和介电(绝缘)前体沉积到微电子器件上的需求。
此外,快速存取和存储数据的需求不断增加,也促使了对具有更高介电值的材料的需求。的原子层沉积(ALD)贵金属,如钌,铑,铱,钯和铂,预计是一个活跃的研究领域。新工业应用对几种薄膜材料的高需求可以归因于ALD技术的快速发展。所有这些因素预计将在预测期内推动市场。
选择和设计适当的金属 - 有机前体对于成功开发新的CVD方法至关重要。买家更喜欢具有高介电常数的绝缘子,因为它们在现代半导体器件中发挥了几个关键作用,包括降低金属绝缘体 - 半导体(MIS)场效应晶体管的功耗。预计预测期,对金属前体的需求,如铝,铪,钴,钛,钽,钨和锆,钽,钨和锆,预测期会增加。
这种前体用于制造薄金属膜。由于其在非半导体区域的应用和半导体工业的快速增长,ALD领域存在着相当大的发展。原子层沉积是一种尖端沉积方法,其允许以特别控制的方式沉积几纳米的超薄膜。此外,除了在埃赫斯特罗姆水平提供厚度控制之外,ALD还提供了高纵横比结构的显着沉积形一位。
正确的前体的选择是在获得下一代缩放存储器和金属氧化物半导体场效应晶体管(MOSFET)器件的期望的高k材料时是一个主要挑战。这种半导体器件需要具有高纵横比和低沉积温度的共形薄膜。高温沉积技术可能导致复杂性,例如降低非均匀层的粘附,层间原子扩散,形态变化以及结晶度的变化。
根据技术,市场分为互连、电容器和门。高k前驱体主要用于制造栅和电容器,而金属前驱体用于制造电极和互连线。预计从2019年到2025年,登机口板块将见证13.1%的最高复合年增长率。在ALD技术上已经进行了重要的研究,利用高k介质材料,如用于DRAM的Al2O3、Ta2O5、HfO2和ZrO2,高k栅氧化物,以及用于电极和互连的氮化物来生产薄膜。
互连是一种制造技术,使用铜(Cu)或铝(Al)为金属图案,以及引入阻挡金属层,以保护集成电路(IC)中的硅(Si)免受潜在的损害。高k介质层在某些电子元件和设备中越来越普遍,如先进的金属-绝缘体-金属(MIM)电容器、dram、有机薄膜晶体管、oled和非易失性类型的存储设备。高k金属栅极技术用于晶体管缩放。
当晶体管尺寸较低到1.0nm和以下时,高k电介质和金属栅极技术的组合提供了大幅泄漏的栅极泄漏减小。半导体公司在CMOS技术中使用的MOSFET中将High-K金属门(HKMG)堆叠在MOSFET中纳入,以继续提供高达45nm和以下节点的设备缩放。由英特尔引入的主要技术包括增强的通道应变,铪基和高k门电动,以及双工作功能金属更换门。
亚太地区市场2018年市场份额最大,价值2.936亿美元。受中国电子产品需求高于平均水平、电子设备生产继续外包给中国等因素影响,亚太地区预计将在预测期内继续占据主导地位。巴西、俄罗斯、印度和中国(金砖四国)经济体对半导体器件的需求不断增长,由于对具有低成本、高便携性和多样性的最终用途电子产品的需求不断增长,预计也将显著促进该地区市场的增长。
青睐美国市场增长的关键趋势是半导体工业中使用的纳米技术中的研发活动的增加。此外,还升级了对制造半导体器件的需求,例如3D堆叠IC,具有多方面的架构和使用具有成本效益和无缝制造工艺(例如ALD)的生产过程,以推动该国的市场增长。
这个市场上的知名公司包括法国液化空气集团;空气产品和化学品公司;普莱克斯;德国默克制药公司;陶氏化学公司。这些公司大多采用收购和合作战略,以扩大其在全球市场的足迹。例如,2015年11月,默克收购西格玛奥德里奇,投资生命科学业务,加强其无菌检测产品组合。
收购后,SAFC Hitech的业务与默克的性能材料业务合并,并有望成为其集成电路业务部门的一部分。Beneq是一家原子层沉积设备和薄膜涂层服务提供商,与工艺创新中心(CPI)达成了一项战略合作协议,将ALD技术用于印刷电子应用。ayx爱游戏热门直播
报告的属性 |
细节 |
2020年的市场大小值 |
527.3百万美元 |
2025年收入预测 |
789.8万美元 |
增长速度 |
2019 - 2025年的复合年增长率为8.3% |
基准年估计 |
2018 |
历史数据 |
2015年 - 2017年 |
预测期 |
2019年 - 2025年 |
量化单位 |
2019年至2025美元的收入以百万美元/亿美元和复合年度 |
报告覆盖 |
收入预测,公司排名,竞争格局,增长因素和趋势 |
部分覆盖 |
技术,地区 |
区域范围 |
北美;欧洲;亚太地区;拉丁美洲;中东和非洲 |
国家范围 |
我们。;加拿大;墨西哥;英国。;德国;中国;印度;日本;巴西 |
关键的公司介绍 |
液化空气;空气产品和化学品公司;普莱克斯;德国默克制药公司;陶氏化学公司 |
自定义范围 |
免费报表定制(相当于8个分析师工作日)与购买。国家、地区和部门范围的增加或变更。 |
定价和购买选项 |
使用定制购买选项,以满足您的确切研究需求。探索购买选择 |
本报告预测全球,地区和国家层面的收入增长,并对2015年至2025年的每个子部分的最新行业趋势进行了分析。对于这项研究,宏伟的视野研究已经分段为全球高k和ALDCVD金属前体基于技术和地区的市场报告:
技术展望(收入,百万美元,2015 - 2025)
互连
电容器
盖茨
区域展望(收入,百万,2015 - 2025)
北美
美国。
加拿大
欧洲
英国。
德国
亚太地区
中国
日本
印度
拉美
巴西
墨西哥
中东和非洲
湾2019年全球高钾和ALD CVD金属前体市场规模估计为489.8百万美元,预计将于2020年达到527.3百万美元。
湾预计全球高钾和ALD CVD金属前体市场预计将以2019年至2025年的复合年增长率增长8.3%,到2025年达到789.8百万美元。
湾亚太地区在2019年以64.9%的份额占据了高k和ALD CVD金属前体市场。这归因于中国电子产品的需求以及对中国的电子设备生产的继续外包。
湾在高k和ALD CVD金属前体市场中运行的一些关键球员包括液化空气;空气产品和化学品公司;普莱克斯;德国默克制药公司;和陶氏化学公司之间的其他人。
湾推动市场增长的关键因素包括对快速访问和存储数据的需求增加,以及对具有更高介电常数的金属前体的需求,如铝、铪、钴、钛、钽、钨和锆。
“他们为我们所做的研究质量一直很棒......”